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愛德萬測(cè)試:先進(jìn)芯片測(cè)試需求激增,英偉達(dá)Blackwell GPU受關(guān)注

   時(shí)間:2025-01-02 15:19 作者:楊凌霄

近日,半導(dǎo)體測(cè)試領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)Advantest愛德萬測(cè)試集團(tuán)的掌舵人Douglas Lefever,在接受國(guó)際知名媒體《金融時(shí)報(bào)》的專訪時(shí),深刻闡述了現(xiàn)代先進(jìn)芯片測(cè)試需求的顯著增長(zhǎng)。

Lefever指出,目前最先進(jìn)的芯片在整個(gè)生產(chǎn)過程中,從晶圓切割到成品組裝,需要經(jīng)過Advantest設(shè)備多達(dá)10至20次的嚴(yán)格測(cè)試。這一數(shù)字相較于五年前,有了顯著的飛躍,彼時(shí),測(cè)試次數(shù)還是個(gè)位數(shù)。同時(shí),測(cè)試所需的時(shí)間也在增加,以Blackwell芯片為例,其測(cè)試時(shí)長(zhǎng)是英偉達(dá)上一代AI GPU的三到四倍。

Lefever強(qiáng)調(diào),Advantest的V93000單一可擴(kuò)展測(cè)試平臺(tái),在這一進(jìn)程中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。該平臺(tái)以其高效、精準(zhǔn)的測(cè)試能力,滿足了現(xiàn)代先進(jìn)芯片對(duì)測(cè)試的高要求。

Lefever還密切關(guān)注著美國(guó)大型科技巨頭如微軟、谷歌、meta等在AI領(lǐng)域的支出動(dòng)態(tài)。他表示,盡管這些企業(yè)的AI支出可能會(huì)出現(xiàn)短期下滑,但這更可能是正常的周期性波動(dòng)。然而,由于這些企業(yè)的巨大規(guī)模,即使微小的變化也可能對(duì)供應(yīng)鏈產(chǎn)生深遠(yuǎn)的影響。

在談到AI手機(jī)市場(chǎng)時(shí),Lefever表示,目前該市場(chǎng)仍處于低位,因?yàn)樯形闯霈F(xiàn)真正的殺手級(jí)應(yīng)用需求。但他也指出,一旦這種顛覆性的應(yīng)用出現(xiàn),智能手機(jī)市場(chǎng)將迎來爆發(fā)性的需求增長(zhǎng)。這一觀點(diǎn),無疑為AI手機(jī)市場(chǎng)的未來發(fā)展留下了廣闊的想象空間。

 
 
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