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三星3nm工藝良率低于客戶期望,面臨臺積電競爭壓力,半導體業(yè)務(wù)陷入危機

   時間:2024-11-07 19:50 作者:沈瑾瑜

近日,韓媒曝光了三星電子在3nm工藝制程上的困境。據(jù)悉,三星的第1、2代3nm技術(shù),即SF3E-3GAE與SF3-3GAP,其良率分別僅為60%和20%,遠未達到客戶期望的70%標準。這一現(xiàn)狀使得三星在先進制程市場的競爭中,難以與臺積電等對手抗衡,進而影響了其尖端邏輯工藝的投資回報。

三星DS部門作為具備IDM特質(zhì)的企業(yè),其存儲器、系統(tǒng)LSI及Foundry業(yè)務(wù)本應(yīng)形成互補優(yōu)勢。若自家設(shè)計的Exynos處理器能順利由Foundry制造,并得到市場認可,將有望吸引更多客戶采用三星的“交鑰匙”解決方案,包括邏輯代工、HBM內(nèi)存及先進封裝技術(shù)。然而,目前這一良性循環(huán)尚未實現(xiàn),反而使三星半導體業(yè)務(wù)陷入危機。

業(yè)界預計,在即將到來的年度管理層調(diào)整中,三星電子DS部門或?qū)⒂瓉砀邔拥拇髶Q血。三大業(yè)務(wù)部門的負責人均面臨被替換的可能,且此次調(diào)整可能早于往年常規(guī)的12月初進行。

今年5月,三星已意外地在年中完成了DS部門總負責人的更替,由全永賢接替慶桂顯的職位。這一變動在當時便引發(fā)了業(yè)內(nèi)的廣泛關(guān)注。

 
 
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